合金微弧氧化表面处理推荐

微弧氧化的发展方向

在工业应用的范围内，微弧氧化氧化工艺在下面几个方向的发展是值得关注的：

①标准电解质的商业化及各种型号与系列电源的深化，并且通过复配电解质而扩展阀金属的范围，从而使微弧氧化的应用范围扩大；

②通过***网络及相应的质量控制模型对微弧氧化工艺进行优化，工艺的改进（比如鼓入气泡以及超声波震动）；

③ 微弧氧化与其它技术的复合应用。微弧氧化电源

微弧氧化技术主要应用于哪些方面？

目前微弧氧化技术根据其制备的膜层特性，在众多领域有所应用，如耐磨、耐腐蚀、耐高温氧化、热阻隔、生物活性、高阻抗等。尚有许多其他方面的应用前景有待于进一步挖掘。如果根据材料本身的应用范围来讲，铝合金可能希望改善其表面耐磨、耐腐蚀等性能，镁合金耐腐蚀性能较差，进行微弧氧化多为提高其表面耐腐蚀性能，生物材料用镁合金需提高其生物相容性。钛合金用于航空航天领域需提高膜层的耐高温性能及耐腐蚀性能，应用于生物材料则通常需改善其生物活性。采用该技术可在铝、镁合金表面生长一层致密的陶瓷膜,这层保护膜与基体结合力强、尺寸变化小,耐磨损、耐腐蚀、耐热冲击及绝缘性能得到极大改善,在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。在一些电子元器件或电场中的器件，微弧氧化膜层可提高其绝缘特性。因此，微弧氧化技术应用于何种领域需试环境而论。微弧氧化生产线、微弧氧化电源

微弧氧化膜层的性能能够达到何种程度？

一般来讲，微弧氧化膜层是瞬间高温下生成的内部致密的陶瓷层，膜层均具有良好的膜基结合力、硬度、耐磨耐腐蚀特性、高的绝缘性及耐高温氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工艺下制备的膜层性能也有差异。如，一般情况下，铝表面制备的膜层比镁合金表面制备的膜层具有更高的硬度和耐磨性，因为从生成物来看，氧化铝硬度及耐磨性均高于氧化镁，铝表面氧化膜硬度高可以达到HV3000。但是通常单纯考虑这种极限性能并不可取，如单纯提高膜层的硬度，可能需提高膜层厚度，降低膜基结合力，对膜层整体性能不利。因此，一般很少单独强调某种性能。其膜层由于是在高温下生成（瞬间高温度超过3K摄氏度），膜层与基体间为冶金结合，因此与基体结合良好。只是如果有特殊要求，可以提出，整体加以调制，在满足特殊需求的基础上使膜层整体具有良好性能。如，某镁合金需要耐蚀，可以根据需求对膜层厚度、溶液成分等进行调制，满足耐蚀400小时、600小时等特殊需求。