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微弧氧化的起源

微弧氧化(MAO)是一种在轻金属表面原位生长陶瓷氧化膜的新技术。美国五十年代在某些兵工厂开始研究阳极火花沉积,前苏联从七十年代中期开始***研究微弧氧化且具较高水平,八十年代中、后期以来微弧氧化研究已成为国际研究热点并开始应用,九十年代初国内开始起步。微弧氧化在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。微弧氧化技术又称微等离子体氧化或阳极火花沉积，实质上是一种高压的阳极氧化，是一种新型的金属表面处理技术。（压铸件氧化，铝镁合金硬质氧化，硬质氧化）微弧氧化技术原理、微弧氧化生产线、微弧氧化电源

微弧氧化技术特点

（1）氧化膜具有陶瓷结构特征。

（2）原位生长。

（3）氧化膜均匀增厚。

（4）无污染：无环保限制元素加入，基本无废水排放。

制备工艺简单。

（5）表面硬度高，显微硬度在400至1500HV；

（6）耐磨损性能与硬质合金相当；

（7）耐腐蚀性能：盐雾试验铝合金1000－2000小时 ；镁

合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。

（8）耐热性能：300℃水中淬火35次未见变化，1300℃

冲击5次不脱落、不龟裂。

（9）绝缘性能：膜厚不同,表面电阻达 109－12Ω

。微

阳极氧化膜层与微弧氧化膜层的区别是什么？

由微弧氧化膜层的生长机理可知，阳极氧化是微弧氧化的初级阶段。阳极氧化发生的是化学反应，而微弧氧化除化学反应外，还伴随有电化学、高温等离子体等反应。其膜层由于是在高温下生成（瞬间高温度超过3K摄氏度），膜层与基体间为冶金结合，因此与基体结合良好。另外，膜层为氧化物瞬间冷凝形成，具有较高的致密度和硬度以及良好的耐腐蚀性能，良好的绝缘性等。但归跟到底，微弧氧化膜层与阳极氧化膜层醉的的差别在于：膜与基体的结合力，膜层内部致密性及相结构。微弧氧化的陶瓷膜较阳极氧化膜在防腐蚀、耐磨性、电绝缘性和装饰性等方面都有明显的改善和提高，但并不意味着微弧氧化就属于市场的专有产物。这几种差别引起了微弧氧化膜层与阳极氧化膜层其它方面的性能差异。微弧氧化生产线、微弧氧化电源