实验微弧氧化电源择优推荐「多图」

与普通的阳极氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，与基质结合紧密， 且在耐蚀、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技术生成的膜层综合性能优良，与基体结合牢固, 且工艺简单，对环境污染小, 目前对其生长规律、生长机理和影响因素等已经有了较为深入的研究, 在工业上得到了一定的应用, 是一种具有发展潜力的镁合金表面处理技术。微弧氧化技术在现代工业中应用汇越来越广泛。目前微弧氧化技术根据其制备的膜层特性，在众多领域有所应用，如耐磨、耐腐蚀、耐高温氧化、热阻隔、生物活性、高阻抗等。

微弧氧化技术的原理及特点

微弧氧化技术是近十多年来国际国内兴起的高新技术，是材料表面改性的一种重要方法。微弧氧化技术是指在普通阳极氧化的基础上，利用电化学手段，通过等离子体微孤的高温高压作用，在阳极上发生的反应，从而使铝（镁、钛、锆等）合金表面发生相和结构的变化，改善合金的耐磨、耐蚀性能和电特性、抗高温冲击特性。3、溶液酸碱度：酸碱度过大或过小，溶解速度都加快，氧化膜生长速度减慢，所以一般选择弱碱性溶液。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术

1、阳极氧化膜厚不足。解决的办法是检查阳极氧化工艺是否规范，看温度，电压，导电等因素是否稳定，若有异常，请相应调整规范之，若无异常，可适当延长氧化时间，保证膜厚达标。

2、染液pH值太高，此时，可用冰醋酸将pH值调至规范值。

3、导电不良。可能阳极铜杆或阴极铅板接触不良所示批量导电不良。注意清洗阳极铜杆及阴极铅板，保证接触良好。